ניקוי ציוד מים טהור במיוחד

ניקוי ציוד מים טהור במיוחד

ככל שרמת האינטגרציה גבוהה יותר של ניקוי מוצרים חצי מוגמרים, מוצרים מוגמרים ומעגלים משולבים, כך הדרישות לאיכות המים גבוהות יותר. זה גם מציג דרישות מחמירות יותר עבור הפשטות, האוטומציה, המשכיות הייצור והקיימות של תהליכי ניקוי ציוד מים טהורים של שניאנג ושל ציוד מים טהורים במיוחד של שניאנג.

משרד התעשייה האלקטרונית של סין מחלק את טכנולוגיית איכות המים האלקטרונית לחמש רמות תעשייתיות, כלומר 18M Ω. ס"מ, 15M Ω. ס"מ, 10M Ω. ס"מ, 2M Ω. ס"מ, ו-0.5M Ω. ס"מ, כדי להבחין בין איכות מים שונה.

זרימת תהליך תהליך ניקוי ציוד מים טהור שניאנג

1. מערכת טיפול מקדים → מערכת אוסמוזה הפוכה → מיכל מים ביניים → מיטה מעורבת גסה → מיטה מעורבת עדינה → מיכל מים טהורים → משאבת מים טהורים → מעקר אולטרה סגול → ליטוש מיטה מעורבת → מסנן דיוק → חפץ מים ( גדול או שווה ל- 18M Ω. CM) (תהליך מסורתי)

2. טיפול מקדים → אוסמוזה הפוכה → מיכל מים ביניים → משאבת מים → מכשיר EDI → מיכל מים מטוהרים → משאבת מים טהורים → מעקר אולטרה סגול → ליטוש מיטה מעורבת → 0.2 או 0.5 μ M Precision מסנן ← חפץ מים (גדול או שווה ל-18M Ω. CM) (התהליך האחרון)

3. טיפול מקדים → אוסמוזה הפוכה ראשונית → מכונת מינון (וויסות PH) → מיכל מים ביניים → אוסמוזה הפוכה משנית (ממברנת אוסמוזה הפוכה מטען חיובי) → מיכל מים טהורים → משאבת מים טהורים → מכשיר EDI → מעקר אולטרה סגול → 0. 2 או 0.5 מיקרומטר מסנן דיוק → אובייקט מים (גדול או שווה ל-17M Ω. CM) (התהליך האחרון)

4. טיפול מקדים → אוסמוזה הפוכה → מיכל מים ביניים → משאבת מים → מכשיר EDI → מיכל מים טהורים → משאבת מים טהורים → מעקר אולטרה סגול → 0.2 או 0.5 μM מסנן דיוק → חפץ מים (גדול או שווה ל-15M Ω. CM) (התהליך האחרון) 5. מערכת טיפול מקדים ← מערכת אוסמוזה הפוכה ← מיכל מים ביניים ← משאבת מים טהורים ← מיטת ערבוב גסה ← מיטת ערבוב עדינה ← מעקר UV ← מסנן דיוק ← חפץ מים ( גדול יותר מאשר או שווה ל-15M Ω. CM) (תהליך מסורתי)

www.superbheater.com